| 圖 片 |
設備名稱 |
制造商 |
型號 |
年份 |
詳細配置 |
狀 態 |
 |
AMAT ENDURA HP氣相沉積設備 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"設備完整不缺件,有2臺現貨; |
國外
|
|
AMAT VIISta HC離子注入機 |
AMAT |
VIISta HC |
- |
設備完整不缺件； |
國外
|
|
AMAT Centura-DPS刻蝕機 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura AP-DPS刻蝕機 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura WxZ刻蝕機 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Reflexion miniship LK機械拋光設備 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Vantage_AP擴散爐 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Endura-CL (MOCVD)化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura-CL (MOCVD) |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT RTP XE CENTURA退火爐 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT VIISTA HC 大束流離子注入機 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT VIISTA HC 大束流離子注入機 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT G5-MESA蝕刻機 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT G5-MESA蝕刻機 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT G5-MESA蝕刻機 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT G5-MESA蝕刻機 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT G5-MESA蝕刻機 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蝕刻機 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蝕刻機 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura Enabler蝕刻機 |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Raider ECD310電化學沉積設備 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT CenturaHDP 5300Omega干式蝕刻機 |
AMAT |
CenturaHDP→
5300Omega |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT UVISION4缺陷檢測工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉積設備 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉積設備 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT RF3 涂膠顯影機 |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm設備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT CENTURE MXP刻蝕機 |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm設備完整不缺件; |
國外
|
 |
AMAT Endura 5500 MOCVD氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can be converted |
國外
|
 |
AMAT P5000 PECVD刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6" 2腔:SiO2+Si3N4,設備在美國已翻新,隨時發回國內; |
國外
|
|
AMAT P5000 DRY ETCH刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
1999 |
6" 2腔: Chamber A =MxP Poly(or Met |
國外
|
 |
AMAT mirra MESA CMP化學機械拋光設備 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
設備完整不缺件,已翻新在國內; |
國外
|
 |
AMAT Endura II氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura II |
- |
有2臺現貨; |
國內
|
 |
AMAT Endura CL PVD氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura CL |
1994 |
1臺主機+IMP艙室+2個艙室+1臺EFEM; |
國內
|
 |
AMAT CENTRIS MESA ETCH沉積蝕刻 |
AMAT |
CENTRIS MESA ETCH |
- |
有2臺現貨(1個主機+3個雙室,射頻機器人渦輪配件齊); |
國內
|
 |
AMAT Endura II PVD 9個腔室氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura II PVD 9 |
2007 |
12"設備完整不缺件,目前設備在韓國倉庫;
AL 2室、TTN |
國外
|
 |
AMAT Endura II PVD 8個腔室氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura II PVD 8 |
2007 |
12"設備完整不缺件,目前設備在韓國倉庫;
SIP 1室、ALP |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
設備完整不缺件,有現貨1臺; |
國內
|
|
AMAT Centura 5200刻蝕機 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
設備完整不缺件,8英寸3腔表觀系統; |
國外
|
 |
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 |
1996 |
CVD 3chamber;nitride
CVD 4chambe |
國外
|
|
AMAT 8330干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
- |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片,備件機; |
國內
|
|
AMAT 8330干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1988.8 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8330干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.2 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8310干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8310 |
1990 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8310干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8310 |
1992.6 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8310干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8310 |
1991.5 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8330干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.5 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8330干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.7 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8330干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.7 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8330干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1991.4 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT 8310干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8310 |
1988.6 |
6"最大1801W,18片/爐,機械手傳片; |
國內
|
|
AMAT AMS-2100干法刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
AMS-2100 |
- |
在線熱機; |
國內
|
|
YAMATO DKN402烤箱 |
YAMATO |
DKN402 |
- |
- |
國外
|
|
AMAT 8310刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8310 |
1988.6 |
在購熱機 6" 刻壓點;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1991.4 |
在購熱機 6" 刻AL;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.7 |
在購熱機 6" 刻AL;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.7 |
在購熱機 6" 刻AL;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.5 |
在購熱機 6" 刻AL;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8310刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8310 |
1991.5 |
在購熱機 6" 刻壓點;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8310刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8310 |
1992.6 |
在購熱機 6" 刻壓點;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1990.2 |
在購熱機 6" 刻AL;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
1988.8 |
在購熱機 6" 刻AL;18片/爐;最大1800W;機械手傳片 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8330 |
- |
6"有1臺; |
國內
|
|
AMAT 8110刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
8110 |
- |
6"有1臺; |
國內
|
|
AMAT AMC 7811外延爐 |
AMAT |
AMC-7811 |
- |
6"有8臺 |
國內
|
|
AMAT 7700外延爐 |
AMAT應用材料 |
7700 |
- |
6"有2臺; |
國內
|
|
AMAT MATERIALS CENTURA ENABLER干法刻蝕設備 |
AMAT應用材料 |
MATERIALS CENTURA ENABLER |
2008 |
System
AC Rack
Monitor
M |
國外
|
|
AMAT MATERIALS Centura HTF EPI外延沉積 |
AMAT應用材料 |
MATERIALS Centura HTF EPI Syst |
- |
美國已下線 |
國外
|
|
AMAT Producer-GT CVD化學氣相沉積 |
AMAT應用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
國外
|
|
AMAT mirra MESA CMP化學機械拋光設備 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 |
- |
8 REFURB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 |
- |
設備完整不缺件,1 CVD+1蝕刻; |
國外
|
|
AMAT Amat Centura2 DSP等離子化學氣相沉積 |
AMAT應用材料 |
Amat Centura2 DSP |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT Centura Ultima HDP等離子化學氣相沉積 |
AMAT應用材料 |
Centura Ultima HDP |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT Centura Ultima等離子化學氣相沉積 |
AMAT應用材料 |
Centura Ultima |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT Centura2 DPS+Poly Etch干法蝕刻機 |
AMAT應用材料 |
Centura2 DPS+Poly Etch |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT P5000 PLIS刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 PLIS |
- |
翻新機Standard TEOS USG x3 Chamber |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2007 |
晶圓尺寸：300mm
生產者 GT： 配置
FI：5.4
服 |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2008 |
晶圓尺寸：300mm
生產者GT：配置FI
類型：SFEM( |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 |
- |
2CH / 3CH |
國外
|
|
AMAT Vera SEM 3D測量系統 |
AMAT應用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
國外
|
|
AMAT Vera SEM 3D測量系統 |
AMAT應用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 |
1995 |
2 chambers CVD
3 chambers CVD |
國外
|
|
AMAT Centura 5200刻蝕機 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
CVD System,6"(3)Chambers. |
國外
|
|
AMAT Centura AP Minos Polysili蝕刻機 |
AMAT |
Centura AP Minos Polysili |
- |
- |
國內
|
|
AMAT MATERIALS CENTURA AP MINOS蝕刻機 |
AMAT應用材料 |
APPLIED MATERIALS CENTURA AP M |
- |
- |
國外
|
|
AMAT 8310氧化物蝕刻器 |
AMAT應用材料 |
8310 |
- |
8" |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 |
- |
- |
國內
|
|
AMAT AKT-3500蝕刻機 |
AMAT應用材料 |
AKT-3500 |
2018 |
CVD |
國外
|
|
AMAT Centura DPS刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
Centura DPS |
1998 |
ETCH |
國外
|
|
AMAT Centura DXZ刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
Centura DXZ |
1999 |
CVD |
國外
|
|
AMAT Centura MXP刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
Centura MXP |
1997 |
ETCH |
國外
|
|
AMAT Centura XE刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
Centura XE |
2003 |
RTP |
國外
|
|
AMAT Centura XE+刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
Centura XE+ |
2003 |
RTP |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
P5000 |
- |
設備完整不缺件,有現貨4臺; |
國內
|
|
AMAT Centura DPS+Poly Etch等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS+Poly Etch |
- |
As-is |
國外
|
|
AMAT Producer-GT CVD化學氣相沉積 |
AMAT應用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
國外
|
|
AMAT mirra MESA CMP化學機械拋光設備 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
- |
8" REFURB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
- |
FULL REPUB |
國外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(NT, Yaskawa), 3x G2 Metal, 1 |
國外
|
|
AMAT Centura Axiom Chamber薄膜沉積設備 |
AMAT |
Centura Axiom Chamber |
2006 |
Axiom Only (w/VODM) |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
1988 |
CVD Mark1, 3x DLH |
國外
|
|
AMAT Reflexion FA拋光設備 |
AMAT |
Reflexion FA |
2005 |
CMP |
國外
|
|
AMAT Vantage 5外延爐 |
AMAT |
Vantage 5 |
2012 |
RTP |
國外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Yaskawa), 3x G2 Meta |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2011 |
3 Twin(HARP USG, RPC_FI80131), FI |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2010 |
1 Twin CH(ACL) only |
國外
|
|
AMAT Centura Enabler Etch刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
Centura Enabler |
2007 |
- |
國外
|
|
AMAT Centura Chamber刻蝕機 |
AMAT應用材料 |
Centura Chamber |
2010 |
2 x Minos, 1 x Carina, 1 x Axion, |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
MULTIPLE UNITS AVAILABLE. PLEASE |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
ULTIPLE UNITS AVAILBLE. PLEASE I |
國外
|
|
AMAT Centura Enabler Chamber蝕刻機 |
AMAT |
Centura Enabler Chamber |
2004 |
Condition : Very Good , CE Marked |
國外
|
|
AMAT Vantage Vulcan外延爐 |
AMAT |
Vantage Vulcan |
2013 |
2 Chamber RTP System |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2014 |
Parts Machine: 1 x Proudcer GT ch |
國外
|
|
AMAT Olympia CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Olympia |
2015 |
2Ch ALD System, Single chamber, I |
國外
|
|
AMAT ACMS XT II Component晶圓清洗 |
AMAT |
ACMS XT II |
2005 |
- |
國外
|
|
AMAT ACMS0XT-ASG-E Component清洗設備 |
AMAT |
ACMS0XT-ASG-E |
2006 |
- |
國外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光學檢測計量設備 |
AMAT |
UVision 5 |
2011 |
- |
國外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光學檢測計量設備 |
AMAT |
UVision 5 |
2012 |
300mm G1 Load Port 2
Moving Monr |
國外
|
|
AMAT Centura Carina Chamber Etch刻蝕機 |
AMAT |
Centura Carina Chamber |
- |
Chamber Only.
Carina Etch Chambe |
國外
|
 |
AMAT Endura II PVD氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura II |
2006 |
1x DSTTN |
已售出
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operational. Loadport |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operational. |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operational. |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2015 |
3 Chamber: 1x SiCoNi PME, Frontie |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2016 |
Frontier FRONTIER etch for Juncti |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2015 |
Frontier FRONTIER etch for Juncti |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2017 |
Frontier FRONTIER etch for Juncti |
國外
|
|
AMAT Octane G2 assy氣相沉積 |
AMAT應用材料 |
Octane G2 assy |
1999 |
- |
國外
|
|
AMAT Octane G2 assy氣相沉積 |
AMAT應用材料 |
Octane G2 assy |
1999 |
- |
國外
|
|
AMAT Endura CL PVD氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura CL |
2004 |
EFEM(2Ports, Kensington), , 2x A |
國外
|
|
AMAT Endura CL PVD氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura CL |
2004 |
EFEM(2Ports, Kensington), 1x Gen |
國外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光學檢測計量設備 |
AMAT應用材料 |
UVision 5 |
2012 |
2port(TDK TAS300), Yaskawa robot |
國外
|
|
AMAT Uvision 4量測設備 |
AMAT |
UVision 4 |
2009 |
[As-is]2ea*TDK load port, Kawasak |
國外
|
|
AMAT Uvision 4量測設備 |
AMAT |
UVision 4 |
- |
Parts Sale Available
If you need |
國外
|
|
AMAT Centura DPS2 532 Metal等離子體蝕刻設備 |
AMAT應用材料 |
Centura DPS2 532 Metal |
2006 |
EFEM(Yaskawa), 2xDPS532, 1xAxiom, |
國外
|
|
AMAT Endura II氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura II |
2004 |
EFEM, TM, 2x PCII, 2x IMP, 1x TxZ |
國外
|
|
AMAT Producer SE CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT應用材料 |
Producer SE |
2003 |
2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V |
國外
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AMAT Producer SE CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT應用材料 |
Producer SE |
2007 |
3Twin ACL(HF and LF Gen), Server |
國外
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AMAT Producer GT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer GT |
2003 |
Polisher STD, Desica Cleaner |
國外
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AMAT Centura DPS2 Poly Etch等離子體蝕刻設備 |
AMAT應用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Poly; 1x Axiom, |
國外
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AMAT Centura DPS2 Poly Etch等離子體蝕刻設備 |
AMAT應用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2006 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Poly, 1x Axiom, |
國外
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AMAT Centura DPS2 Poly Etch等離子體蝕刻設備 |
AMAT應用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2006 |
EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 |
國外
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AMAT Centura DPS2 AdvantEdge G等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS2 AdvantEdge G5 Mes |
2007 |
G5 Mesa. EFEM(Server, Kawasaki) 3 |
國外
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AMAT Centura DPS2 Chamber等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
國外
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AMAT Centura DPS2 Chamber等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
國外
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AMAT Centura DPS2 Chamber Etch等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
國外
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AMAT Centura DPS2 Metal Etch等離子體蝕刻設備 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Kawasaki), 3x G2 Met |
國外
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蝕刻機 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2007 |
12"設備完整不缺件; |
國外
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AMAT Producer SE CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer SE |
2009 |
2x BDII 1x UV Cure |
國外
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蝕刻機 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2007 |
8"缺件; |
國外
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AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD MarkII, 2x DLH_Delta, 2x Etch |
國外
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AMAT Centura DPS Metal Etch刻蝕機 |
AMAT |
Centura DPS Metal |
1996 |
C1P1, WBLL, 1x Orient, 1x CD, 2x |
國外
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AMAT Producer SE CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer SE |
2004 |
HT-SiN 3 Twin, OS_FES(CGA), FInRT |
國外
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AMAT DPS2 532 Metal Chamber Etch刻蝕機 |
AMAT |
DPS2 532 Metal Chamber |
2004 |
DPS2 532 Metal Chamber only |
國外
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AMAT Producer SE CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer SE |
2006 |
2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V |
國外
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AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
1990 |
CVD Mark1, 3x DLH |
國外
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AMAT Centura Enabler刻蝕機 |
AMAT |
Centura Enabler |
2006 |
EFEM(NT, Yaskawa, missing Blade), |
國外
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AMAT Centura Enabler刻蝕機 |
AMAT |
Centura Enabler |
2006 |
EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3 |
國外
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AMAT Centura Enabler刻蝕機 |
AMAT |
Centura Enabler |
2008 |
EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3 |
國外
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AMAT Centura DPS2 Poly刻蝕機 |
AMAT |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 |
國外
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AMAT Centura DPS2 Poly刻蝕機 |
AMAT |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 |
國外
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AMAT Centura AP ISPRINT CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Centura AP ISPRINT |
2008 |
4 xALD W CH, OS_SErver Type, AP F |
國外
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AMAT P5000刻蝕機 |
AMAT |
P5000 |
- |
在線熱機,有2臺; |
國外
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AMAT Centura Enabler E2刻蝕機 |
AMAT |
Centura Enabler E2 |
2010 |
EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3 |
國外
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AMAT Centura Avatar Etch刻蝕機 |
AMAT |
Centura Avatar |
- |
AVATAR 4x Chamber only |
國外
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AMAT Endura CL PVD氣相沉積設備 |
AMAT |
Endura CL |
2000 |
EFEM(2 Ports, Kensington), XP Rob |
國外
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AMAT Centura Enabler Etch刻蝕機 |
AMAT |
Centura Enabler |
2010 |
EFEM(NT, Fixed Kawasaki), TM(VHP) |
國外
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蝕刻機 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2006 |
8"缺件; |
國外
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蝕刻機 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2004 |
8"缺件; |
國外
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AMAT Producer SE CVD化學氣相沉積設備 |
AMAT |
Producer SE |
2007 |
ACL Process, 2 Twin Ch(HF_Apex301 |
國外
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AMAT Orbot WF720晶圓檢測系統 |
AMAT |
Orbot WF720 |
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- |
國外
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AMAT AMC7811外延爐 |
AMAT |
AMC-7811 |
1990 |
Epitaxy |
國外
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AMAT AMC7800RPX外延爐 |
AMAT |
AMC7800RPX |
1982 |
Epitaxy |
國外
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AMAT AMC7821外延爐 |
AMAT |
AMC7821 |
1983 |
epitaxy |
國外
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AMAT AMC7821外延爐 |
AMAT |
AMC7821 |
2001 |
OEM rebuild aug-2001 Epitaxy |
國外
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